asdasda

SK海力士正积极争取为无锡存储工厂引进EUV光刻机

日前，韩国半导□体工业协会成立30年纪念活动在首尔举办。

与会期间，SK海力士CEO Seok-hee Lee(李锡熙)和媒体交流时谈到了无锡海力士◣半导体工厂相↓关情况。

关于EUV光刻机进』厂可能延期的问题，李锡熙表示，正与美方合■作，进展良好。EUV光刻技术已经在韩国本≡土的DRAM产线上♂应用，中国工厂▂还有充足的时间供斡旋沟通。

据悉，SK海】力士将基于EUV光刻∩机制造10nm DRAM芯片，也就是第四代内◥存。无锡工厂同样计划应用相关技术，目前∮正寻求多种途径克服困难，毕竟它是一家韩国企业。