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                新闻中心

                SK海力士正积极争取为无锡存储工厂引进EUV光刻机

                日前,韩国半导□体工业协会成立30年纪念活动在首尔举办。

                与会期间,SK海力士CEO Seok-hee Lee(李锡熙)和媒体交流时谈到了无锡海力士◣半导体工厂相↓关情况。

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                关于EUV光刻机进』厂可能延期的问题,李锡熙表示,正与美方合■作,进展良好。EUV光刻技术已经在韩国本≡土的DRAM产线上♂应用,中国工厂▂还有充足的时间供斡旋沟通。

                据悉,SK海】力士将基于EUV光刻∩机制造10nm DRAM芯片,也就是第四代内◥存。无锡工厂同样计划应用相关技术,目前∮正寻求多种途径克服困难,毕竟它是一家韩国企业。